台积电前副总裁表示，美国阻止不了中国半导体向 5 纳米迈进
无视美国限制其技术进步的制裁，中国的中芯国际（SMIC）和华为在芯片技术方面已经取得了重大进展。前台积电副总裁在接受彭博社的一次采访中表示，SMIC 已经拥有的 ASML 光刻设备，公司能够实现 5 纳米级制造工艺。
"美国无法完全阻止中国提升其芯片技术"前副总裁林本坚告诉彭博社。尽管美国通过制裁实施技术限制，但中芯国际表现出了显著的韧性和创造力，开发了其第二代 7 纳米级制造工艺，并且还取得了足够高的产量，足以让华为计划提供 7000 万部智能手机的计划。中芯国际使用了 ASML 的 Twinscan NXT:2000i 光刻工具，这是一种深紫外（DUV）光刻扫描仪，可以生产 7 纳米和 5 纳米级制程技术的芯片。今年早些时候，荷兰政府还限制了这种设备对中国的出口。
Twinscan NXT:2000i 的分辨率（≤38纳米）足以用于 7 纳米级单光刻工艺的量产。但是在 5 纳米级制程技术方面，需要更细的分辨率。为了实现这一点，芯片制造商可以使用双光刻、三光刻，甚至四光刻。这是一种光刻技术，涉及将复杂的图案分成若干较简单的图案，然后依次打印，以在半导体制造中实现更高的精度和细节。多光刻的使用是一个复杂的过程，会影响产量和每个晶圆上可以使用的芯片数量，因此通常由于经济原因导致使用受到限制。
但受限于已经拥有的工具，中芯国际别无选择，只能使用多光刻来实现更精细的分辨率。就是在这样不利的情况下，它成功地达到了华为可以接受的产量。由此可见，美国对中国的半导体行业限制是没有效果的。
前台积电研发副总裁林本坚曾表示："美国真正应该做的是集中精力保持其芯片设计领导地位，而不是试图限制中国的进展，因为中国正在采用全国战略来推动芯片产业的发展，因此封锁技术是徒劳的，而且会伤害全球经济"。
有趣的是，美国的制裁似乎无意中为中芯国际打开了机会之门。对台积电施加的限制，禁止其与某些中国实体交易，使中芯国际得以介入并获得大量订单，这对中芯国际的芯片制造技术无疑是一个巨大的提升。
本文编辑：@ 小小辉
©本文著作权归电手所有，未经电手许可，不得转载使用。
